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9月30日周三
  1. EE Times10

    Praziflux 钎焊助焊剂如何改进电动车热交换器制造

    Praziflux 助焊剂结合非接触式点胶工艺,用于电动车热交换器等热管理部件的钎焊,可精准施加助焊剂、消除过喷并省去钎焊后清洗。其活化温度比行业常规低最多 40°C,支持更快传送带速度和更低能耗,并支持设施间运输而不发生材料降解。该工艺还具备可调点径、定向喷射(含顶部施加)和无工具快速维护等特性。

  2. 雷峰网40

    比亚迪第2000座高速闪充站落成,国庆车流能否扛住?

    比亚迪第2000座高速闪充站已在扬州宝应服务区落成,覆盖278条高速公路并形成“11纵11横”布局,国庆假期将首次面临车流集中压力测试。现场演示中车辆从10%充至97%用时约9分钟,站内闪充桩配备摄像头与语音提醒以提升车位周转。比亚迪计划年底前将全国闪充站总量扩至2万座,9月24日已建成11586座。

9月29日周二
  1. EE Times22

    欧盟《网络弹性法案》三大误区:嵌入式产品为何面临风险

    欧盟《网络弹性法案》(CRA)核心要求将于2027年12月11日起执行,漏洞与事件报告义务则从2026年9月11日起适用。文章指出制造商常见的三大误区:CRA 适用范围不取决于是否联网,而看产品是否具备直接或间接的数据连接;2027年前已上市产品可继续转售,但重大修改后须合规;安全支持期与产品路线图无关,一般至少五年。IEC 62443 可辅助 CRA 准备,但单独合规不等于满足 CRA。

9月28日周一
  1. Electrek22

    奇瑞 Omoda 与 Jaecoo 确认 2026 年底登陆加拿大:电动 SUV 阵容一览

    奇瑞旗下 Omoda 与 Jaecoo 上线加拿大官网,确认将于 2026 年底进入加拿大市场,但尚未公布具体车型、价格和经销商。此举源于加拿大 1 月将中国电动车 100% 关税降至 6.1%,每年允许最多 49,000 辆中国产电动化车辆以低税率进入,2030 年升至 70,000 辆,且配额涵盖插混和混动车型。

9月27日周日
  1. Electrek12

    Kempower 与 DP World 签署框架协议,为加拿大全境码头提供充电基础设施

    Kempower 与 DP World 签署框架协议,将为后者加拿大全境码头提供充电基础设施及相关服务,首批两个站点已上线。此前本月早些时候,Kempower 已在温哥华 Global Container Terminals 完成高速充电设施安装,GCT 还试用了仅靠机会充电的重型电动码头牵引车,报告称其几乎全程可用。

9月26日周六
  1. Electrek12

    Electrek 播客:Tesla Semi 量产、吉利电池自愈快充、Rivian R3 等

    Electrek 播客本周讨论 Tesla Semi 终于进入量产、吉利 AI 快充可"修复"电池并提升 20% 循环寿命,以及 Rivian R3 将比 R2"大幅"更便宜、R4 更低。节目还涉及福特 Fathom 前备箱尾门专利、Bentley 首款电动车 Torcal(888 PS、375 英里续航)、VinFast VF Wild EREV 皮卡和大众电动小巴再度推迟入美。

  2. Electrek38

    特斯拉专利曝光新一代 Roadster:隐藏式主动尾翼可产生 700 kg 下压力

    特斯拉新专利申请描述了一款隐藏式两片主动尾翼,展开后可产生最高 700 kg 下压力,收起时与车尾齐平。该尾翼可在 3 秒内完成展开、0.25 秒内调整角度,并支持 DRS 模式将下压力降至 0 kg。专利图纸中的车型外观与新一代 Roadster 高度吻合,而特斯拉计划于 10 月 1 日在得克萨斯州发布该车。

9月25日周五
9月24日周四
  1. SpaceNews12

    Moog 尼亚加拉瀑布工厂建成 ISO Class 8 洁净室,推进器产能提升逾 80%

    Moog 在其尼亚加拉瀑布工厂完成并启用新的 ISO Class 8 认证洁净室,洁净室专用产能提升超过 80%,可支持多班次连续运行。该设施覆盖从精密子装配、集成到热试车的完整生产流程,用于加速国防与商业航天推进器交付。厂区还配备四个内部高空热试车舱,并已新增数十个运营与工程岗位。

9月17日周四
9月10日周四
9月9日周三
9月8日周二
  1. Samsung Newsroom62

    三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作,推进 12 英寸光罩与 DRAM 制造

    三星电子与 ASML 宣布扩大长期战略合作,深化 High NA EUV 光刻与先进半导体制造技术协作。三星将加入推动下一代 12 英寸光罩技术的行业计划,取代沿用数十年的 6 英寸光罩格式,以提升晶圆厂产能、降低芯片制造成本并消除拼接限制。三星还计划在 2028 年前首次将 ASML 的 High NA EUV 引入 DRAM 大规模量产。

    推荐理由:三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作并推动 12 英寸光罩,可了解先进制程与 DRAM 制造路线的下一步。

8月27日周四