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今天10月1日周四
  1. Tom's Hardware22

    Intel 专利将 MicroLED 嵌入芯片封装,或借 TGV 实现嵌入式光互连

    Intel 获得一项美国专利,把带 MicroLED 的芯片裸片嵌入玻璃基板,并用 TGV 供电和传输信号,可发出 RGB 光。该技术可用于诊断测试和芯片表面定制灯效,也被视为共封装光学的一种替代集成路径。台厂 AU Optronics 有重叠路线图,其在 SEMICON Taiwan 2026 展示的 Micro LED 光通信目标互连距离达 10 米,面向 AI 数据中心。

  2. TechPowerUp60

    台积电据报评估在得州建厂,规模或超 265 亿美元亚利桑那计划

    据台湾《经济日报》报道,台积电计划在得州建设第二个美国制造基地,项目包含六座先进晶圆厂,最可能落地达拉斯,总投资或超过亚利桑那的 265 亿美元。路透社随后援引两名知情人士称,台积电确在评估得州投资,但计划尚未敲定,且将叠加在亚利桑那承诺之上。

9月8日周二
  1. Samsung Newsroom62

    三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作,推进 12 英寸光罩与 DRAM 制造

    三星电子与 ASML 宣布扩大长期战略合作,深化 High NA EUV 光刻与先进半导体制造技术协作。三星将加入推动下一代 12 英寸光罩技术的行业计划,取代沿用数十年的 6 英寸光罩格式,以提升晶圆厂产能、降低芯片制造成本并消除拼接限制。三星还计划在 2028 年前首次将 ASML 的 High NA EUV 引入 DRAM 大规模量产。

    推荐理由:三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作并推动 12 英寸光罩,可了解先进制程与 DRAM 制造路线的下一步。