跳到正文
今天10月1日周四
9月10日周四
9月9日周三
9月8日周二
  1. Samsung Newsroom62

    三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作,推进 12 英寸光罩与 DRAM 制造

    三星电子与 ASML 宣布扩大长期战略合作,深化 High NA EUV 光刻与先进半导体制造技术协作。三星将加入推动下一代 12 英寸光罩技术的行业计划,取代沿用数十年的 6 英寸光罩格式,以提升晶圆厂产能、降低芯片制造成本并消除拼接限制。三星还计划在 2028 年前首次将 ASML 的 High NA EUV 引入 DRAM 大规模量产。

    推荐理由:三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作并推动 12 英寸光罩,可了解先进制程与 DRAM 制造路线的下一步。

8月27日周四