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三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作，推进 12 英寸光罩与 DRAM 制造
Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing
AI 导读
三星电子与 ASML 宣布扩大长期战略合作，深化 High NA EUV 光刻与先进半导体制造技术协作。三星将加入推动下一代 12 英寸光罩技术的行业计划，取代沿用数十年的 6 英寸光罩格式，以提升晶圆厂产能、降低芯片制造成本并消除拼接限制。三星还计划在 2028 年前首次将 ASML 的 High NA EUV 引入 DRAM 大规模量产。
推荐理由
三星与 ASML 扩大 High NA EUV 合作并推动 12 英寸光罩，可了解先进制程与 DRAM 制造路线的下一步。
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